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當前位置:首頁 >產品中心>精密實驗爐設備>高溫真空爐>HFL 16/16-HFL 160/17高溫真空爐

高溫真空爐

簡要描述:高溫真空性密封罐爐配有密封罐外間接加熱裝置,特別適于規(guī)定的爐膛內保護氣或反應氣熱處理操作。窯爐的有效空間由一個氣密性密封罐組成,在爐門上配有水冷系統(tǒng),以建立特殊的密封保護。根據(jù)窯爐應用溫度范圍的不同,我們推薦您選用相應的爐型,以取得溫度分布效果?;緺t型的溫度均勻度已達到ΔT 30K(符合DIN 17052標準,溫度高于800℃)。

  • 產品型號:HFL 16/16-HFL 160/17
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-12-16
  • 訪  問  量:2489

詳細介紹

高溫真空爐 
 


 

產品介紹:

名稱:高溫真空爐

品牌:納博熱

型號:HFL 16/16-HFL 160/17

產地:德國

特點:溫度1600℃或1700℃,優(yōu)質的二硅化鉬(MoSi2)加熱元件,優(yōu)質的輕質耐火磚保溫結構和后部絕熱設計。
儀器簡介:

這種氣密性密封罐爐配有密封罐外間接加熱裝置,特別適于規(guī)定的爐膛內保護氣或反應氣熱處理操作。窯爐的有效空間由一個氣密性密封罐組成,在爐門上配有水冷系統(tǒng),以建立特殊的密封保護。根據(jù)窯爐應用溫度范圍的不同,我們推薦您選用相應的爐型,以取得溫度分布效果。基本爐型的溫度均勻度已達到ΔT 30K(符合DIN 17052標準,溫度高于800℃)。如想進一步優(yōu)化窯爐的溫度均勻度,甚至在其他的溫度范圍內也達到ΔT 10K,可加配不同的附加裝置:

在500℃左右以下的工作范圍內,窯爐加配氣體循環(huán)裝置,在爐門內安裝快速運轉風扇。在500℃和800℃之間,加熱裝置應實現(xiàn)額外的三區(qū)式分布和溫控。在800℃以上,不帶氣體循環(huán)裝置的三區(qū)式溫控是正確的選擇。基本爐型專為不可燃保護氣操作而設計。我們也能為您提供其他裝置,以實現(xiàn)其余類型的氣體和安全的氫氣操作。通過使用各種不同的額外裝置,例如級聯(lián)調節(jié)裝置,窯爐可進行優(yōu)化配置,以適應不同的熱處理操作。借助真空泵,窯爐可實現(xiàn)真空冷抽,從而降低預沖洗過程中的氣體消耗量。


技術參數(shù):

 

 

型號

溫度

內尺寸mm

容積

外尺寸mm

連接功率

電氣

重量

 

°C

千瓦

連接*

公斤

N 21/M

1100

220

300

150

10

830

950

760

10

3

290

N 41/M

1100

320

450

150

20

930

1100

760

13

3

420

N 81/M

1100

450

700

150

50

1250

1550

900

20

3

1000

N 161/M

1100

500

700

240

90

1300

1550

1050

30

3

1110

N 321/M

1100

700

1050

240

180

1550

1900

1050

47

3

1550

N 41/MA

900

320

450

150

20

930

1350

760

13

3

450

N 81/MA

900

450

700

150

50

1250

1870

900

20

3

1030

N 161/MA

900

500

700

240

90

1300

1870

1050

30

3

1140

N 321/MA

900

700

1050

240

180

1550

2220

1050

47

3

1580



主要特點:

 

溫度1100 °C
氣密性密封罐用于規(guī)定氣氛的熱處理操作
可實現(xiàn)不可燃保護氣如氮氣、氬氣、混合氣(95/5)操作
開放的冷卻水系統(tǒng)用于爐門密封
隔熱板防止爐門上溫度下降
密封罐環(huán)周加熱確保良好的溫度均勻度
手動供氣系統(tǒng)帶有切斷閥、流量計和調節(jié)閥,管道已連接

帶可選連接裝置的密封罐可以連接真空泵,進行真空冷抽
供貨范圍包含支架
針對各類控制器的說明參見“測量和調節(jié)技術”

額外配置
用于其他不可燃氣體操作的配置
自動供氣系統(tǒng),帶MFC流量調節(jié)器,用于變換的體積流量,由PLC調控
用于氫氣操作的供氣系統(tǒng),配備全面的安全系統(tǒng)和PLC控制裝置,用于安全功能監(jiān)控
用于密封罐真空冷抽的真空泵
帶快速運轉風扇的氣體循環(huán)系統(tǒng),用于500 °C以下的工作溫度
多區(qū)控溫和氣體循環(huán)系統(tǒng),用于500 °C和800 °C之間的工作溫度
多區(qū)控溫系統(tǒng),用于800 °C以上的工作溫度
用于縮短作業(yè)時間的冷卻系統(tǒng)
用于脫蠟處理或保護氣氣氛下熱解操作的系統(tǒng)裝置,配有規(guī)定的排放口和安全技術通過密封罐內腔進行溫度調控,溫度測量在密封罐內部和外面進行,采用級聯(lián)調節(jié)方式

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